提到英特尔的半导体制程技术,不知道大家首先会想到什么?
可能很多朋友会想到英特尔前几年使用的14nm、14nm+、14nm++等制程工艺,但可能很多人不知道的是,在这组看似“裹足不前”的数字背后,实际上体现出的反而正是那段时间英特尔的“良心”。
简单来说,其实整个半导体行业(不只是英特尔)在20nm到16/14nm阶段时,都面临着“晶体管密度难以继续大幅度改进”的问题。但当时有一部分企业想出了个“好办法”,那就是只对实际工艺做很小幅度的提升,却为其赋予一个看起来进步很大的“数字”。
比如,当时一些厂商会将改进的20nm制程“称作”16nm、甚至14nm,同时将其进一步改进的版本再叫做12nm、11nm。当这种把戏越玩越多之后,对于他们来说,“制程”这个数字实际上就已经与真正的工艺、晶体管密度并不挂钩了。
可问题在于,当时的英特尔并不赞同这种做法。于是当其他的竞争对手们拿着30MTr/mm²(3000万晶体管每平方毫米)的制程,就敢叫“14nm”、甚至“12nm”时,英特尔44.67MTr/mm²的“真14nm”,反而成为了在市场宣传上吃亏的那一个。
正因如此,当时间来到2021年,英特尔首次打破常规,将旗下的改进版10nm工艺(严格来说算是10nm++)“重命名”为Intel 7,算是被迫迎合了半导体行业的主流宣发策略。
但即便如此,英特尔依然保留了一些“矜持”。比如他们的Intel 7、Intel 4工艺,在命名上都不会加“nm”这个单位,且英特尔在这些“等效数字”的选择上也从未有过夸大。例如“Intel 7”的晶体管密度就高达100MTr/mm²,确实完全等同于其他家的“7nm”工艺水平。